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相对湿度在35%－40%之间能够作为一个令人满意的折中，半导体无尘车间、洁净室一般都运用额外的操控装置以约束静电荷的堆集。许多化学反响的速度，包含腐蚀的进程，将跟着相对湿度的zeng高而加速。一切暴露在无尘车间、洁净室周围空气中的外表都很快地被覆盖上至少一层单分子层的水。当这些外表是由能够与水反响的薄金属涂层组成时，高湿度能够使反响加速。幸运的是，一些金属，例如铝，能够与水构成一层维护形的氧化物，并阻止进一步的氧化反响；但另一种情况是，例如氧化铜，是不具有维护才能的，因而，在高湿度的环境中，铜制外表更容易遭到腐蚀。

影响无尘净化工程洁净度及选择气流速度的因素主要是：(1)室内污染源：建筑物组件、人员数量及操作活动、工艺设备、工艺材料及工艺加工本身等都是尘粒释放源，根据具体情况而异，变化很大;(2)室内气流流型及分布：单向流要求均匀、平等的流线，但会受到工艺设备布置和位置变动及人员活动情况等的干扰形成局部涡流;而非单向流要求充混合，避免死角及温度分层。

净化工程要操控温湿度详细有啥办法？ 但是关于大多数洁净空间，为了避免外界污染侵入，需求坚持内部的压力（静压）高于外部的压力（静压）。压力差的保持通常应契合以下准则：1.洁净度等级高的空间的压力要高于相邻的洁净度等级低的空间的压力。2.相通洁净室之间的门要开向洁净度等级高的房间。3.洁净空间的压力要高于非洁净空间的压力。压力差的保持依托新风量，这个新风量要能抵偿在这一压力差下从缝隙漏泄掉的风量。所以压力差的物理含义即是漏泄（或浸透）风量经过洁净室的各种缝隙时的阻力。